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LRECS-1500M卷绕镀膜机
所属分类：
公司最新研发的Lrecs-1500M卷绕镀膜机，作为一台集高效能与高品质特性于一体的大型自动化铜膜卷绕真空镀膜设备，具备对多种材料如PET、PI、PP等的兼容性。该设备可装载最大直径为中500的基膜，当基膜厚度为4.5μm时，可实现膜长1-2万米的镀膜作业，生产速度最高可达20m/min。此外，该设备支持单次镀膜过程实现双面镀膜，并通过在线监测仪器进行实时监控，保障成膜的高良率。
设备特点
● 沉积速率快:
通过磁场增强等离子体密度，提高溅射效率，从而快速沉积薄膜。
● 薄膜质量高:
制备的薄膜均匀性好、致密性高、纯度高，膜基结合力强。
● 膜层均匀性好:
磁场的作用使得电子在靶表面做螺旋运动，增加了轰击的均匀性。
● 环保无污染:
在高真空环境下进行，不产生有害气体和废物。
● 设备简单，易于控制:
适合大规模工业生产，能够精确控制薄膜的厚度和成分。
● 应用广泛:
可用于制备金属、合金、氧化物等多种薄膜
| 设备型号 | LRECS-1500M |
| 设备尺寸 | Φ3000×2100(mm) |
| 基膜规格 | Φ500×1350(mm) |
| 基膜厚度 | 4.5~125(μm) |
| 有效镀膜宽度 | 1000~1250(mm)单双面镀膜 |
| 镀膜系统 | 真空镀膜系统2套 |
| 真空泵组 | 分子泵、粗抽泵、罗茨泵 |
| 离子源ICP | 2套，两边分别各1套，主要用于基材表面处理及辅助成膜18个，两边各1个平面靶材，用于基材亲和力打底 |
| 设备靶材 | 两边各8个，主要用于快速成膜 |
| 圆柱靶材 | 16个，单个靶材电能可以加到18KW，区别在于设备每个靶材各自1台电源 |
| 电源数量 | 250KW |
| 设备功率 | 6-20m/min |
| 成膜速度 | 厚度良率90%以上，利用在线监测仪器进行实时监控 |
| 成膜良率 | PI PET PP CPI等 |
| 支持材料 | 溅射工艺优化合理，无生产过程成膜不良，张力控制合理，无张力带来的成膜 |
| 设备优势 | 皱纹和厚度不均匀 |
- 产品描述
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公司最新研发的Lrecs-1500M卷绕镀膜机，作为一台集高效能与高品质特性于一体的大型自动化铜膜卷绕真空镀膜设备，具备对多种材料如PET、PI、PP等的兼容性。该设备可装载最大直径为中500的基膜，当基膜厚度为4.5μm时，可实现膜长1-2万米的镀膜作业，生产速度最高可达20m/min。此外，该设备支持单次镀膜过程实现双面镀膜，并通过在线监测仪器进行实时监控，保障成膜的高良率。
设备特点
● 沉积速率快:
通过磁场增强等离子体密度，提高溅射效率，从而快速沉积薄膜。● 薄膜质量高:
制备的薄膜均匀性好、致密性高、纯度高，膜基结合力强。● 膜层均匀性好:
磁场的作用使得电子在靶表面做螺旋运动，增加了轰击的均匀性。● 环保无污染:
在高真空环境下进行，不产生有害气体和废物。● 设备简单，易于控制:
适合大规模工业生产，能够精确控制薄膜的厚度和成分。● 应用广泛:
可用于制备金属、合金、氧化物等多种薄膜设备型号 LRECS-1500M 设备尺寸 Φ3000×2100(mm) 基膜规格 Φ500×1350(mm) 基膜厚度 4.5~125(μm) 有效镀膜宽度 1000~1250(mm)单双面镀膜 镀膜系统 真空镀膜系统2套 真空泵组 分子泵、粗抽泵、罗茨泵 离子源ICP 2套，两边分别各1套，主要用于基材表面处理及辅助成膜18个，两边各1个平面靶材，用于基材亲和力打底 设备靶材 两边各8个，主要用于快速成膜 圆柱靶材 16个，单个靶材电能可以加到18KW，区别在于设备每个靶材各自1台电源 电源数量 250KW 设备功率 6-20m/min 成膜速度 厚度良率90%以上，利用在线监测仪器进行实时监控 成膜良率 PI PET PP CPI等 支持材料 溅射工艺优化合理，无生产过程成膜不良，张力控制合理，无张力带来的成膜 设备优势 皱纹和厚度不均匀
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