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LROCS-1680M Pro立式光学磁控溅射镀膜机
所属分类：
LROCS 1680M Pro型模组化立式磁控溅射光学镀膜设备是一款专为量产光学薄膜及AR膜或AR+AF膜层而研发的镀膜设备。该设备可在PET、PC、玻璃等不同基材上制备SiO:、NbOx、Sia N.、Cr、ln、Al等膜层。
该设备采用模组化设计，工艺腔室兼顾普通反应溅射与后氧化溅射工艺，可制备光学膜、超硬AR膜等3C行业用薄膜。所制膜层具有强附着力、良好的致密性、均匀性及重复性等特点，设备制程高效精准，可确保高产和低制程成本。
设备主要由工艺腔室、过渡腔室、预备腔室三大模组构成。工艺腔室可作为单腔体镀膜机独立制备光学膜及(超硬)AR膜，也可与过渡腔室、预备腔室等模组组合成多腔体镀膜机，制备超硬AR+AF膜或超硬AR+DLC+AF膜等复合薄膜。客户可根据实际工艺需求选配不同的工艺组合，并采用一键工艺启动方式，操作简便高效。
主要结构配置
● 设备构成:
1、外部装夹滚筒:中1680mm,用于外部基板装卸;
2、机器人:拥有70kg抓力，用于外部基板装卸;
3、预备腔室:规格(mm)中1728mmx2000(H)，材料为304不锈钢水路水冷，内置AF蒸镀、等离子体清洗等系统;
4、过渡腔室:用于腔室内部基板的传输，配有全自动真空机械手，抓力为40kg，基板数量:14-16片，单片承受重量:30kg，转架最高转速为80rpm;
5、工艺腔室:规格(mm)中1728mmx2000(H)，预留4个溅射靶位，配置2套ICP离子源;
6、真空系统:由分子泵与机械泵组构成，抽气速度:从大气到10Pa≤5分钟，至5.0x10-3Pas40分钟;极限真空:5.0x10-4Pa。
● 操作控制:全自动PLC控制+组态王作业系统。
● 机器占地(mm):12000(L)x7000(W)x5000(H)。
● 机器总重:<3000Kg。
- 产品描述
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LROCS 1680M Pro型模组化立式磁控溅射光学镀膜设备是一款专为量产光学薄膜及AR膜或AR+AF膜层而研发的镀膜设备。该设备可在PET、PC、玻璃等不同基材上制备SiO:、NbOx、Sia N.、Cr、ln、Al等膜层。
该设备采用模组化设计，工艺腔室兼顾普通反应溅射与后氧化溅射工艺，可制备光学膜、超硬AR膜等3C行业用薄膜。所制膜层具有强附着力、良好的致密性、均匀性及重复性等特点，设备制程高效精准，可确保高产和低制程成本。
设备主要由工艺腔室、过渡腔室、预备腔室三大模组构成。工艺腔室可作为单腔体镀膜机独立制备光学膜及(超硬)AR膜，也可与过渡腔室、预备腔室等模组组合成多腔体镀膜机，制备超硬AR+AF膜或超硬AR+DLC+AF膜等复合薄膜。客户可根据实际工艺需求选配不同的工艺组合，并采用一键工艺启动方式，操作简便高效。
主要结构配置
● 设备构成:
1、外部装夹滚筒:中1680mm,用于外部基板装卸;
2、机器人:拥有70kg抓力，用于外部基板装卸;
3、预备腔室:规格(mm)中1728mmx2000(H)，材料为304不锈钢水路水冷，内置AF蒸镀、等离子体清洗等系统;
4、过渡腔室:用于腔室内部基板的传输，配有全自动真空机械手，抓力为40kg，基板数量:14-16片，单片承受重量:30kg，转架最高转速为80rpm;
5、工艺腔室:规格(mm)中1728mmx2000(H)，预留4个溅射靶位，配置2套ICP离子源;
6、真空系统:由分子泵与机械泵组构成，抽气速度:从大气到10Pa≤5分钟，至5.0x10-3Pas40分钟;极限真空:5.0x10-4Pa。
● 操作控制:全自动PLC控制+组态王作业系统。
● 机器占地(mm):12000(L)x7000(W)x5000(H)。
● 机器总重:<3000Kg。
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